本镀膜机主要应用于大专院校、科研机构、企业实验室及微小产品进行真空镀膜等真空处理的工艺研究、样板试制、操作培训和生产。

该设备主机与控制一体化设计，操控方便；结构紧凑，占地面积小。

该系列设备广泛应用于高校、科研院所的教学、科研实验以及生产型企业前期探索性实验及开发新产品等，深受广大用户好评。

技术参数： 1、真空腔室：ф300×H360mm， 304 *不锈钢真空腔室/（不包含真空机组，               480x320x460mm宽X高X深） 2、真空系统：复合分子泵+直联旋片泵+高真阀门高真空系统，数显复合真空计； 3、真空**限：（空载）8.0×10-5Pa； 4、漏率：≤0.8Pa/h； 5、抽速：（空载）从大气抽至 5.0×10-3Pa≤13min； 6、膜厚不均匀性：≤±5%（基片台Φ80mm 范围内）； 7、其他：磁控溅射和蒸发镀一体机等。

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